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올해부터 핵심 기술 유출하면 ‘최대 징역 18년’···양형위 기준 강화
앞으로 국가의 핵심기술을 해외로 유출할 경우 기존 형량의 두 배에 달하는 최대 징역 18년이 선고될 전망이다. 기술 유출의 초범 역시 집행유예 대상에서 제외되고 거래처와 파견직원도 비밀유지 의무 대상에 포함된다. 대법원 양형위원회는 129-1차 전체회의를 열고 이 같은 내용의 지식재산·기술침해범죄, 스토킹범죄 및 마약범죄 양형기준안을 의결했다고 19일 밝혔다. 양형위는 기존에 기술유출범죄는 영업비밀 침해행위로만 처벌이 가능하면서 '솜방망이 처벌'에 그친다는 지적을 받아 들여 지식재산권범죄 양형기준에 '산업기술 등 침해행위' 유형을 신설하고, 명칭을 '지식재산·기술침해범죄 양형기준'으로 수정했다.신설된 산업기술 등 침해행위는 '누설·도용'과 '국내침해' '산업기술 등 국외침해' '국가핵심기술 등 국외침해'로 구분했다. 국가핵심기술 등 국외침해는 기본 3~7년에 가중 5~12년으로 최대 18년까지 처벌이 가능해졌다. 산업기술 국내침해는 최대 권고형량을 기존 6년에서 9년으로, 국외침해는 기존 9년에서 15년으로 상향했다. 산업기술의 단순 누설·도용도 최대 4년 2개월까지 처벌이 가능하다. 양형위는 "기술침해범죄의 특수성에 맞는 객관적이고 합리적인 양형기준을 제시하고자 했다"며 "기술침해범죄의 권고 형량범위는 엄정한 양형을 바라는 국민적 공감대를 반영해 기존 양형사례나 법정형이 동일한 유사 범죄군의 양형기준보다 규범적으로 상향된 형량범위를 제시했다"고 설명했다. ‘비밀유지’ 해당자에 거래처, 파견직원도 포함기존 영업비밀 침해행위의 권
2024.01.20 08:48:15
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삼성 전 임원, 中에 ‘짝퉁 반도체공장’ 세우려다 덜미
삼성전자의 영업비밀이자 국가 핵심 기술인 반도체 공장 설계 자료를 중국으로 빼돌려 중국에 복제 공장을 세우려던 전 삼성전자 임원 등이 재판에 넘겨졌다.수원지검 방위사업·산업기술범죄수사부(부장검사 박진성)는 산업기술보호법 위반, 부정경쟁방지법 위반(영업비밀국외누설 등) 등의 혐의로 삼성전자 전 임원 A씨(65)를 구속기소했다고 6월 12일 밝혔다.또한 A씨가 대표로 있는 중국 반도체 제조회사 직원 5명과 공장 설계 도면을 빼돌린 삼성전자 협력업체 직원 1명 등 6명을 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 불구속 기소했다. 전 삼성전자 임원, 중국 시안에 삼성 복제 공장 설립 추진A씨는 삼성전자에서 18년, SK하이닉스에서 10년동안 임원으로 재직한 반도체분야 전문가다. A씨 등은 2018~2019년 대만의 전자제품 생산·판매업체인 B사로부터 투자받아 중국 시안에 반도체 건설을 추진하면서 삼성전자의 영업비밀이자 국가 핵심 기술인 반도체 공장 BED(Basic Engineering Data)와 공정 배치도, 공장 설계도면 등을 부정 취득·부정 사용한 혐의를 받는다.A씨는 공장 설립 과정에서 고액 연봉을 내세워 삼성전자와 SK하이닉스 출신 반도체 인력 200여명을 자신의 회사로 영입하고, 이들에게 삼성전자 반도체 공장 설계도면 등을 입수해 활용하라고 지시한 것으로 전해진다.이들이 세우려 한 복제판 공장은 삼성전자의 중국 시안 반도체 공장에서 불과 1.5㎞ 떨어진 곳에 위치한 것으로 알려졌다.반도체 공장 BED는 반도체 제조가 이뤄지는 공간인 '클린룸'에 불순물이 존재하지 않는 최적의 환경을 만들기 위한 기술이다. 공정배치도는 반도체 생산을 위한 핵심 8대 공정의 배치, 면적 등의 정보가 기재된 도면이다.이들
2023.06.12 14:51:33
