ASML에 EUV장비 부품 공급사 본사 방문
ASML 신임 CEO도 동행
자이스, 480억원 투자해 한국에 R&D센터 구축

26일(현지 시간) 독일 오버코헨 자이스(ZEISS) 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장이 칼 람프레히트 자이스그룹 CEO(맨 오른쪽) 등과 대화하고 있다. 사진=삼성전자
26일(현지 시간) 독일 오버코헨 자이스(ZEISS) 본사를 방문한 이재용 삼성전자 회장이 칼 람프레히트 자이스그룹 CEO(맨 오른쪽) 등과 대화하고 있다. 사진=삼성전자
이재용 삼성전자 회장이 26일(현지 시간) 독일 오버코헨에 위치한 자이스(ZEISS) 본사를 방문해 칼 람프레히트 최고경영자(CEO) 등 경영진과 양사 협력 강화 방안을 논의했다.

이 자리에는 크리스토프 푸케 신임 ASML CEO도 동행한 것으로 알려졌다. 푸케 CEO는 10년간 ASML을 이끌었던 페터르 베닝크 전임 CEO의 뒤를 이어 회사 수장 자리에 올랐다.

자이스는 첨단 반도체 생산에 필수적인 EUV(극자외선) 기술 관련 핵심 특허를 2000개 이상 보유하고 있는 글로벌 광학 기업이다. ASML의 EUV 장비에 탑재되는 광학 시스템을 독점 공급하고 있다. EUV 장비 1대에 들어가는 자이스 부품은 3만개 이상이다.

이 회장은 자이스 경영진과 반도체 핵심 기술 트렌드 및 양사의 중장기 기술 로드맵에 대해 논의했으며, 자이스의 공장을 방문해 최신 반도체 부품 및 장비가 생산되는 모습을 직접 살펴봤다.

자이스 본사 방문에는 송재혁 삼성전자 DS(디바이스솔루션)부문 CTO, 남석우 삼성전자 DS부문 제조&기술담당 사장 등 반도체 생산기술을 총괄하는 경영진이 동행했다.

삼성전자와 자이스는 파운드리와 메모리 사업 경쟁력을 강화하기 위해 향후 EUV 기술 및 첨단 반도체 장비 관련 분야에서의 협력을 더욱 확대하기로 했다.

삼성전자는 EUV 기술력을 바탕으로 파운드리 시장에서 3나노 이하 초미세공정 시장을 주도하고, 연내에 EUV 공정을 적용해 6세대 10나노급 D램을 양산할 계획이다.

삼성전자는 자이스와의 기술 협력을 통해 차세대 반도체의 성능 개선, 생산 공정 최적화, 수율 향상을 달성해 사업 경쟁력을 끌어올릴 수 있을 것으로 기대하고 있다.

자이스는 2026년까지 480억원을 투자해 한국에 R&D 센터를 구축할 방침이다. 자이스가 한국 R&D 거점을 마련함에 따라 양사의 전략적 협력은 한층 강화될 전망이다.
26일(현지 시간) 이재용 삼성전자 회장이 독일 오버코헨 자이스 본사를 방문한 뒤 이동하고 있다. 사진=삼성전자
26일(현지 시간) 이재용 삼성전자 회장이 독일 오버코헨 자이스 본사를 방문한 뒤 이동하고 있다. 사진=삼성전자
이 회장은 인공지능(AI) 반도체 시장을 선점하고 미래 먹거리를 확보하기 위해 총력을 기울이고 있다.

이 회장은 지난 2월 마크 저커버그 메타 CEO를 만났고, 지난해 12월에는 피터 베닝크 전 ASML CEO와 회동했다. 앞서 지난해 5월에는 젠슨 황 엔비디아 CEO를 만나는 등 글로벌 IT 기업 CEO들과 미래 협력을 논의해왔다.

삼성전자는 메모리반도체에 이어 시스템반도체 분야에서도 확고한 사업 경쟁력을 확보하기 위해 미래 투자를 지속하고 있다.

지난해 역대 최대 파운드리 수주 잔고를 달성한 삼성전자는 3나노 이하 초미세공정 기술 우위 지속, 고객사 다변화, 선제적 R&D 투자, 과감한 국내외 시설 투자, 반도체 생태계 육성을 통해 파운드리 사업을 미래 핵심 성장동력으로 키워나가고 있다.

전작에 비해 AI 성능이 약 15배 이상 향상된 모바일 AP ‘엑시노스 2400’은 삼성의 플래그십 스마트폰 갤럭시 S24에 탑재돼 매출이 큰 폭으로 증가할 것으로 예상된다. 이미지센서 분야에서는 지난해 12월 출시한 ‘아이소셀 비전 63D’ 등 다양한 제품을 양산하며 업계 1위 기업을 맹추격하고 있으며, DDI(디스플레이구동칩) 시장에서는 21년째 세계 1위를 유지하고 있다.

삼성은 NPU(인간의 뇌를 모방한 신경망처리장치) 사업도 본격적으로 육성하며 시스템반도체 사업 영역을 확장하고 있다.


안옥희 기자 ahnoh05@hankyung.com